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集成电路工艺制造培训课程

简介
分类
IC工艺
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任务列表

  • 第1任务: 集成电路制造简介
  • 第2任务: 半导体工艺导论
  • 第3任务: 半导体基础
  • 第4任务: 半导体的基础 2
  • 第5任务: 晶圆制造
  • 第6任务: 热工艺-扩散炉
  • 第7任务: 热工艺-氧化(1)
  • 第8任务: 热工艺-氧化(2)
  • 第9任务: 热工艺-扩散
  • 第10任务: 热工艺-退火
  • 第11任务: 光刻-光刻胶
  • 第12任务: 等离子基础-等离子及其参数
  • 第13任务: 光刻-流程
  • 第14任务: 等离子基础-等离子和HDP的产生
  • 第15任务: 离子注入
  • 第16任务: 刻蚀-等离子刻蚀
  • 第17任务: 刻蚀-刻蚀的基础和湿法刻蚀
  • 第18任务: 化学汽相淀积(1)
  • 第19任务: 化学汽相淀积(2)
  • 第20任务: 化学汽相淀积(3)
  • 第21任务: 金属化(1)
  • 第22任务: 金属化 (2)
  • 第23任务: CMP(1)
  • 第24任务: CMP (2)

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